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顯影液 無需表面活性劑 紫外固化 厚膜 正性 光刻膠 各種顯影工藝 puddle Dip 效果
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最小起訂≥10 公斤
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更新日期2021-09-17 10:05
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品牌: |
未填 |
所在地: |
廣東 深圳市 |
起訂: |
≥10 公斤 |
供貨總量: |
666 公斤 |
有效期至: |
長期有效 |
材料: |
正性 光刻膠 |
材質(zhì): |
各種顯影工藝 |
材料 | 正性 光刻膠 |
---|---|
材質(zhì) | 各種顯影工藝 |
產(chǎn)地 | 深圳 |
封裝 | 無需表面活性劑 |
類型 | 顯影液 無需表面活性劑 安智 AZ400K AZ300MF 厚膜 正性 光刻膠 各種顯影工藝 pud |
批號 | 安智 AZ400K AZ300MF |
特性 | 顯影液 無需表面活性劑 安智 AZ400K AZ300MF 厚膜 正性 光刻膠 各種顯影工藝 pud |
形狀 | 厚膜 |
用途 | 效果好 |
種類 | 顯影高 清晰度高 |
溝道類型 | puddle Dip |
品牌 | 深圳啟耀光電 |
型號 | 顯影液 |
加工定制 | 是 |
集成電路制造中利用光學(xué)- 化學(xué)反應(yīng)原理和化學(xué),、物理刻蝕方法,將電路圖形傳遞到單晶表面或介質(zhì)層上,,形成有效圖形窗口或功能圖形的工藝技術(shù),。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2~3個數(shù)量級(從毫米級到亞微米級),,已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用電子束,、 X射線、微離子束,、激光等新技術(shù),;使用波長已從4000埃擴(kuò)展到 0.1埃數(shù)量級范圍。光刻技術(shù)成為一種精密的微細(xì)加工技術(shù)。光刻技術(shù)是在一片平整的硅片上構(gòu)建半導(dǎo)體MOS管和電路的基礎(chǔ),,這其中包含有很多步驟與流程,。首先要在硅片上涂上一層耐腐蝕的光刻膠,隨后讓強(qiáng)光通過一塊刻有電路圖案的鏤空掩模板(MASK)照射在硅片上,。被照射到的部分(如源區(qū)和漏區(qū))光刻膠會發(fā)生變質(zhì),,而構(gòu)筑柵區(qū)的地方不會被照射到,所以光刻膠會仍舊粘連在上面,。接下來**是用腐蝕性液體清洗硅片,,變質(zhì)的光刻膠被除去,露出下面的硅片,,而柵區(qū)在光刻膠的保護(hù)下不會受到影響,。隨后**是粒子沉積、掩膜,、刻線等操作,,直到**形成成品晶片(WAFER)。
.生產(chǎn) 正性 負(fù)性 光刻膠 PR 安智AZ系列 AZ6112 AZ6130 高感光度 高產(chǎn)出率 很寬的膜厚范圍 適合干法刻蝕工藝 成分穩(wěn)定 應(yīng)用廣
2.生產(chǎn) 正性 負(fù)性 光刻膠 PR 安智AZ系列 AZ3100 G線 I線通用 高附著性 適合干法濕法刻蝕工藝 成分穩(wěn)定 應(yīng)用廣
3.生產(chǎn) 正性 負(fù)性 光刻膠 PR 安智AZ系列 AZ1500 高感光度 高附著性 適合濕法刻蝕工藝 成分穩(wěn)定 應(yīng)用廣
4.圓片級封裝(WLP)用 正性 負(fù)性 光刻膠 PR 安智AZ系列 AZ50XT AZ10XT 高分辨率 高縱寬比 高附著性 電鍍工藝高耐受性 凸點(diǎn)UBM工藝 成分穩(wěn)定 應(yīng)用廣
5.圓形化襯底(PSS)用 正性 負(fù)性 光刻膠 PR 安智AZ系列 AZ GXR-601 G線I線通用 高感光度,,高產(chǎn)出率 適合干法刻蝕工藝 成分穩(wěn)定 應(yīng)用廣
6.適合蒸鍍正性 負(fù)性光刻膠 安智AZ系列 AZ5200 AZ5214E 高分辨率 很寬的膜厚范圍 用于正/負(fù)反轉(zhuǎn) lift-off工藝 穩(wěn)定性好
7.生產(chǎn) 正性 負(fù)性 光刻膠 PR 安智AZ-P 高對比度 高感光率 高附著性 電鍍工藝耐受性好 成分穩(wěn)定 可靠性高
8.顯影液 無需表面活性劑 安智 AZ400K AZ300MF 厚膜 正性 光刻膠 各種顯影工藝 puddle Dip 效果好 顯影高 清晰度高
9.LED行業(yè) CSP芯片級封裝 正性 負(fù)性 光刻膠 lift-off工藝 高膜厚 耐高溫 蒸鍍 成分穩(wěn)定 應(yīng)用廣
10.適用 LED行業(yè) CSP芯片級封裝 正性 負(fù)性 光刻膠 干法刻蝕工藝 高膜厚 耐高溫 蒸鍍 成分穩(wěn)定 應(yīng)用廣
11.生產(chǎn)應(yīng)用 LED行業(yè) 高壓芯片(HV)倒裝芯片(FC)正性 負(fù)性 光刻膠 干法刻蝕工藝 高膜厚 耐高溫 蒸鍍 成分穩(wěn)定 專業(yè)廠家
12.生產(chǎn)應(yīng)用 LED行業(yè) 高壓芯片(HV)倒裝芯片(FC)正性 負(fù)性 光刻膠 lift-off工藝 高膜厚 耐高溫 蒸鍍 成分穩(wěn)定 專業(yè)廠家
13.生產(chǎn)應(yīng)用 LED行業(yè) 高壓芯片(HV)倒裝芯片(FC)正性 負(fù)性 光刻膠 lift-off工藝 高膜厚 耐高溫 蒸鍍 成分穩(wěn)定 專業(yè)廠家
14.生產(chǎn)應(yīng)用 LED行業(yè) 圓片級封裝(WLP) 正性 負(fù)性 光刻膠 凸點(diǎn)UBM工藝 高膜厚 耐高溫 電鍍工藝耐受性 成分穩(wěn)定 專業(yè)廠家
15.生產(chǎn)應(yīng)用 LED行業(yè) metal mesh工藝,,金屬網(wǎng)格觸摸屏 柔性 光刻膠 高粘附力 耐刻蝕 銅蝕刻工藝 成分穩(wěn)定 專業(yè)廠家
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18.蓋板行業(yè) 防爆油墨 曝光油墨 3D曲面玻璃 UV油墨 快干 OD值高 噴涂油墨 耐酸堿 曝光曝光能量低 分辨率高 成分穩(wěn)定 效果好
19.蓋板行業(yè) 防爆油墨 曝光油墨 3D曲面玻璃 透明光阻 高分辨率 透過率高 噴涂油墨 耐酸堿 曝光能量低 分辨率高 成分穩(wěn)定 效果好
20.蓋板行業(yè) 防爆油墨 曝光油墨 3D曲面玻璃 紋理油墨 高分辨率 透過率高 噴涂油墨 耐酸堿 曝光能量低 分辨率高 成分穩(wěn)定 效果好
21.蓋板行業(yè) 防爆油墨 曝光油墨 3D曲面玻璃 BM光阻 快干 OD值高 噴涂油墨 耐酸堿 曝光曝光能量低 分辨率高 成分穩(wěn)定 效果好
22.蓋板行業(yè) 3D曲面玻璃 噴涂 防爆油墨 液體防爆膠 水性防爆膜 黑色 透明色 粘度好 強(qiáng)度高 產(chǎn)能高
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