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電鍍廠電鍍就是利用電解原理

電鍍就是利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其它金屬或合金的過(guò)程,，是利用電解作用使金屬或其它材料制件的表面附著一層金屬膜的工藝從而起到防止金屬氧化。但是有時(shí)電鍍的鍍層會(huì)發(fā)黃,，這是什么原因呢,？1、在鍍層中,，金屬之間會(huì)有一個(gè)間隙,，當(dāng)然,，肉眼很難看到，而在空隙之間,，鍍液中會(huì)有藥劑和添加劑,，電鍍錫，藥液大多是酸性和堿性的,，電鍍產(chǎn)品暴露在空氣中,。隨著溫度、熱膨脹和收縮的變化,，會(huì)產(chǎn)生一些物理性質(zhì),。它使殘留的藥劑和添加劑噴出，附著在電鍍上的錫層很容易被這些物質(zhì)腐蝕,。表面被氧化,，涂層變黃。2,、后處理不充分,，在電鍍的過(guò)程中,，附著在產(chǎn)品表面的被洗掉,，表面上的大部分被移除，表面上殘留的少量應(yīng)該用弱堿中和,，以確保表面是干凈的,。電鍍廠電鍍就是利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其它金屬或合金的過(guò)程，是利用電解作用使金屬或其它材料制件的表面附著一層金屬膜的工藝從而起到防止金屬氧化,，提高耐磨性,、導(dǎo)電性、反光性,、抗腐蝕性及增進(jìn)美觀等作用,。不少的外層亦為電鍍。這將對(duì)未來(lái)的存儲(chǔ)有很大的幫助,。在中和過(guò)程中,，電鍍的錫層將被密封，以防止過(guò)量的藥劑進(jìn)入電鍍層,。所以,，清洗電鍍層越好。用超聲波沖洗水,。

電鍍是將電流通過(guò)一種稱為電解質(zhì)的溶液

電鍍是將電流通過(guò)一種稱為電解質(zhì)的溶液,。這是通過(guò)將稱為電極的兩個(gè)端子浸入電解質(zhì)中，并將它們連接到具有電池或其他電源的電路中來(lái)完成的,。電極和電解質(zhì)由精心挑選的元素或化合物制成,。當(dāng)電流流過(guò)它們所形成的電路時(shí),，電解質(zhì)會(huì)分裂，并且它所含的一些金屬原子會(huì)沉積在一個(gè)電極上的一層薄層中——它被電鍍,。電鍍非常類似于電解（使用電來(lái)分解化學(xué)溶液）,，這與電池產(chǎn)生電流的過(guò)程相反。所有這些都是電化學(xué)的例子：由電力引起或產(chǎn)生的化學(xué)反應(yīng),，它們提供科學(xué)或工業(yè)上有用的終端產(chǎn)品,。

電鍍屬于電解加工過(guò)程，電源的因素必將對(duì)電鍍工藝過(guò)程產(chǎn)生直接影響,，電鍍電源在電鍍工藝中具有重要地位,。電鍍電源和低紋波系數(shù)整流電源在電鍍行業(yè)中的應(yīng)用，讓電鍍界同仁在選擇整流電源,、解決電鍍故障,、提高電鍍質(zhì)量有所幫助。1,、電鍍電源對(duì)電鍍工藝的影響直流電源波形對(duì)電鍍質(zhì)量有突出的影響各類電鍍工藝中,，鍍鉻是受電源波形影響大的鍍種之一。鍍鉻必須采用低紋波直流電源,，否則光亮范圍窄,，馬鞍山電鍍，鍍層易發(fā)花,、發(fā)灰,。在使用鍍硬鉻添加劑時(shí)，產(chǎn)生微裂紋鉻層,，輸出紋波過(guò)大時(shí),，裂紋不細(xì)密且分布不均勻，達(dá)不到要求的裂紋數(shù),。2,、整流器的基本類型硅整流器：硅整流器使用歷史長(zhǎng)，技術(shù)成熟,，五金電鍍,，目前是整流器產(chǎn)品。各種整流電路獲得的均是脈動(dòng)直流電,，不是純直流,。為了比較脈動(dòng)成份的多少，一般用紋波系數(shù)來(lái)表示,，其數(shù)值越小,，交流成份越少，越接近純直流,。各種整流電路的波動(dòng)系數(shù)不同,。其由大到小的次序?yàn)椋喝喟氩ㄕ?、三相全波橋式整流或帶平衡電抗器的六相雙反星形整流?？煽毓枥酶淖兛煽毓韫軐?dǎo)通角來(lái)調(diào)整輸出平均直流大小的普通可控硅整流器,，電鍍鎳，可控硅管輸出的是間斷脈沖波,，電鍍其紋波系數(shù)的受導(dǎo)通角控制,，輸出紋波系數(shù)大于普通硅整流電路。3,、開(kāi)關(guān)電源開(kāi)關(guān)電源兼有硅整流器的波形平滑性優(yōu)點(diǎn)及可控硅整流器的調(diào)壓方便的優(yōu)點(diǎn),，電流體積小，數(shù)千安培至上萬(wàn)安培的大功率開(kāi)關(guān)電源已進(jìn)入生產(chǎn)實(shí)用階段,。開(kāi)關(guān)電源其頻率已達(dá)音頻,，通過(guò)濾波實(shí)現(xiàn)低紋波輸出更為簡(jiǎn)便易行。而且穩(wěn)流,、穩(wěn)壓等功能更易實(shí)現(xiàn),。因此，開(kāi)關(guān)電源是今后發(fā)展的方向,。

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