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電鍍層的質(zhì)量檢查評價(jià)標(biāo)準(zhǔn)：

一,、鍍層的耐蝕性

評定鍍層耐蝕性的試驗(yàn)方法主要有兩大類：自然環(huán)境試驗(yàn)和人工加速腐蝕試驗(yàn)。前者包括使用環(huán)境下的現(xiàn)場試驗(yàn)和不同氣候條件下的大氣暴露試驗(yàn),，這類方法可真實(shí)地評定鍍層的耐蝕性,，但缺點(diǎn)是周期太長;后者包括中性鹽霧試驗(yàn)(nss）醋酸銅加速試驗(yàn)(cass）、腐蝕膏試驗(yàn),、電解腐蝕試驗(yàn),、工業(yè)性氣體腐蝕試驗(yàn)、濕熱試驗(yàn)等,。所有這些耐蝕性試驗(yàn)都有相應(yīng)的,，無錫鍍金，其規(guī)定了試驗(yàn)的條件和評價(jià)方法,。

二,、鍍層的結(jié)合力

電鍍層與基體金屬的結(jié)合力(也稱結(jié)合強(qiáng)度)的檢驗(yàn)方法有很多，但都是定性的測試,。常見的鍍層結(jié)合力的測試方法有摩擦拋光試驗(yàn),、剝離試驗(yàn)、銼刀試驗(yàn),、劃格劃線試驗(yàn),、彎曲試驗(yàn)、熱振試驗(yàn),、深引試驗(yàn)等,。不同的方法適用于不同的鍍層，鍍金多少錢,，也有不同的評定標(biāo)準(zhǔn),，具體使用時(shí)可査閱相應(yīng)的。

電鍍層加工常見的個(gè)質(zhì)量問題;

1,、針箜

針箜是因?yàn)殄兗獗砦街鴼錃?，遲遲不釋放。使鍍液無法親潤鍍件外表,，然后無法電析鍍層,。跟著析氫點(diǎn)四周區(qū)域鍍層厚度的添加，析氫點(diǎn)就構(gòu)成了一個(gè)針箜,。特點(diǎn)是一個(gè)發(fā)亮的圓孔,，有時(shí)還有一個(gè)向上的小尾巴“”。當(dāng)鍍液中短少潮濕劑并且電流密度偏高時(shí),，輕易構(gòu)成針箜,。

2、麻點(diǎn)

麻點(diǎn)是因?yàn)槭苠兺獗聿粷崈?，有固體物質(zhì)吸附,，或許鍍液中固體物質(zhì)懸浮著，當(dāng)在電場效果下抵達(dá)工件外表后,，吸附其上,，而影響了電析，把這些固體物質(zhì)嵌入在電鍍層中,，構(gòu)成一個(gè)個(gè)小凸點(diǎn),。特點(diǎn)是上凸，沒有發(fā)亮景象,，沒有固定外形,。總之是工件臟,、鍍液臟而形成,。

3、氣流條紋

氣流條紋是因?yàn)樘砑觿┻^量或陰極電流密渡過高或絡(luò)合劑過高而降低了陰極電流效率然后析氫量大,。假如那時(shí)鍍液活動(dòng)遲緩,，陰極挪動(dòng)遲緩,，氫氣貼著工件外表上升的進(jìn)程中影響了電析結(jié)晶的陳列，鍍金廠家,，構(gòu)成自下而上一條條氣流條紋,。

4、掩鍍

掩鍍是因?yàn)槭枪ぜ獗砉苣_部位的軟性溢料沒有除去,，無法在此處進(jìn)行電析堆積鍍層,。電鍍后可見基材，故稱,。

電鍍層加工常見的個(gè)質(zhì)量問題：

1,、凹穴鍍層

鍍層表面有疏密不規(guī)則的凹穴呈“天花臉”鍍層。有二種情況可能形成“天花臉”鍍層,。

（1）有的單位用玻璃珠噴射法除去溢料,。當(dāng)噴射的氣壓太高時(shí)，玻璃珠的動(dòng)能慣性把受鍍表面沖擊成一個(gè)個(gè)的小坑,。當(dāng)鍍層偏薄時(shí),，沒有填平凹坑，就成了“天花臉”鍍層,。

（2）基體材料合金金相不均勻,，在鍍前處理過程中有選擇性腐蝕現(xiàn)象。電鍍后沒有填平凹穴,，就成“天花臉”鍍層,。

2、疏松樹枝狀鍍層

在鍍液臟,，主金屬離子濃度高,，絡(luò)合劑低，添加劑低,，鍍金價(jià)格,，陰陽極離的太近，電流密度過大,，在電流區(qū)易形成疏松樹枝狀鍍層,。疏松鍍層像泡沫塑料，樹枝狀參差不齊,，可用手指抹落鍍層,。

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